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场发射电子显微镜

场发射电子显微镜

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China, Shanghai
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Technical characteristics
  • Type of microscopeElectronic
Description
一、场发射电子显微镜产品介绍:
扫描电镜广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。 在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分 析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测 量。

二、场发射电子显微镜技术参数:
1.分辨率:1.0nm(15kV)/1.4nm(1kV)
2.加速电压:0.1KV-30kV
3.放大倍数:25-100万倍
4.样品室尺寸:最大200mm直径样品
5.束流强度:10-13到2X10-9

三、场发射电子显微镜主要特点:
1、主动式减震器
2、最先进的磁悬浮分子泵系统,无需UPS保护
3、标配的五轴马达驱动全对中样品台
4、全自动样品更换气锁
5、全自动样品监控系统
6、全自动物镜光阑
7、多通道显示系统
8、自动减速系统标准配置
9、消除充电效应。
  • 10、可得到低电压下的背散射电子像。
  • 11、提供更多表面细节和成份信息。
  • 12、取图自动化-可同时显示4种不同的16位信号图像。


  • 四、场发射电子显微镜原理介绍:
    场发射扫描电镜的场发射扫描电镜全部采用新一代专利镜筒设计,具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前世界上唯一真正的内置 镜筒电子束光路上二次电子探测器,具有最佳的灵敏度和最高的接收效率,而且只接收来自样品表面的二次电子,因此具有业界最高等级的分辨率和图像质量。二次 电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上,试样的工作距离不受背散射探测器的影响,可以非常接近极靴,这样可以同时获得最高的二次电子像分 辨率和背散射电子像分辨率,且接收的背散射电子的能量可以控制。的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜,杂散磁场小,可对铁磁体样品进行高分 辨率成像。
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